公司近 30 年致力于光刻胶产品的研发和生产，光刻胶产品类型覆盖高中低分辨率的 i 线、g 线紫外正性光刻胶、环化橡胶型负性光刻胶、化学增幅型光刻胶、厚膜光刻胶等类型，应用行业涵盖 ic、tft-array、led、touch panel、先进封装等领域。
| 型号 | 产品简介 | |
| rzj-390pg | 用于tn、stn、c-stn、tp等制程 | |
| rzj-390h | 高感光度，用于tn、stn、c-stn等制程 | |
| rzj-304 | 高感光度，用于led芯片及大规模集成电路制程 | |
| rzj-305 | 用于双层i to保护用胶 | |
| rzj-306 | 优异的曝光能量宽容度，用于大规模集成电路制程 | |
| rzj-306a | 优异的曝光能量宽容度，用于大规模集成电路制程 | |
| rzj-306b | 高耐热高感光度性能，用于大规模集成电路制程 | |
| rzj-307 | 优异的粘附性能，用于大规模集成电路制程 | |
| rzj-325 | g、l线通用，用于led行业pss制程 | |
| rzj-325a5 | l线优化，更高的图形陡直度及选择比，用于pss制程 |
| 型号 | 产品简介 | |
| rzj-2500d | 用于tp行业关键层制程 | |
| rzj-2500e | ting，用于曲面tp行业关键层制程 | |
| rzj-3600 | 优异的通孔性能，用于tft-array制程 | |
| rzj-3610 | 涂布性能优良，用于tft-array制程 | |
| rzj-5312 | 极限分辨率0.35um的i线光刻胶，用于ic关键层制程 | |
| rzj-5513 | 极限分辨率0.5um的l线光刻胶，用于ic关键层制程 | |
| rzj-t3520 | 5~20um厚膜光刻胶，用于先进封装及led深槽制程 | |
| rzj-5313 | 为0.6um通孔工艺优化 | |
| rzj-5312h | 极限分辨率0.4um，感光速度更快，用于ic关键层制程 | |
| 型号 | 产品简介 | |
| rfj-210 | 高粘附高抗蚀环化橡胶型负性光刻胶，适用于分立器件台面制程 | |
| rfj-220 | 高分辨率高抗蚀环化橡胶负性光刻胶，适用于分立器件平面制程 | |
| rfj-230 | rfj-210改进型，更高抗蚀性产品，适用于分立器件台面制程 | |
| rfj-260 | rfj-210台面覆盖改良型，适用于分立器件台面制程 |
| 型号 | 产品简介 | |
| rfj-210g | rfj-210改进型，适用于gpp光阻法工艺制程 | |
| rfj-210b | 高抗蚀背面保护用胶，适用于分立器件台面制程 | |
| rpn-1150 | 倒梯形型树脂型负性光刻胶，适用于lift-off工艺制程 | |
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