
semi grade5 for 14nm and further technology node

| 品名 | 产品应用 |
| 双氧水 | 广泛应用于半导体前道湿法清洗工艺,包括颗粒、金 属杂质和有机物残留的清洗 |
| 硫酸 | 应用于半导体前道光刻胶剥离和有机物残留的清洗 |
| 氨水 | 应用于半导体前道particle及polymer的清洗 |
| boe | 应用于半导体前道氧化硅的湿法蚀刻工艺 |
| 硝酸 | 应用于半导体前道硅蚀刻液及晶圆回收清洗 |
| 盐酸 | 应用于半导体前道金属杂质的清洗去除 |
| tmah | 应用于半导体前道光刻胶显影剂和硅减薄工艺 |
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